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Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

簡要描述:Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
納米級紋理凹槽表面
可變凹槽周期和凹槽深度
納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇

基礎(chǔ)信息

產(chǎn)品型號

廠商性質(zhì)

經(jīng)銷商

更新時間

2024-11-28

瀏覽次數(shù)

548
詳細(xì)介紹
品牌Edmund Optics價格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域綜合

Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

納米級紋理凹槽表面

可變凹槽周期和凹槽深度

納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇


通用規(guī)格

涂層:
Uncoated
構(gòu)造 :
RIE Grating
基底:
Single Crystal Silicon
表面質(zhì)量:
60-40 (within CA)
厚度 (mm):
0.68 ±0.05


型號

產(chǎn)品編碼Period (nm)尺寸 (mm)
16-855855 ±42.7512.50 x 12.50 
16-856855 ±42.7525.00 x 25.00 
16-857139 ±6.9512.50 x 12.50 
16-858139 ±6.9525.00 x 25.00 


詳細(xì)資料

Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章由在單晶硅基板上形成圖案的納米級紋理表面組成。通過反應(yīng)離子蝕刻,具有梯形橫截面的線性凹槽被蝕刻到基板表面,類似于傳統(tǒng)的光柵。蝕刻工藝可為這些凹槽提供不同的周期和深度規(guī)格,以及更復(fù)雜的圖案,例如晶格。II-VI LightSmyth™ 納米圖案硅印章是光學(xué)和光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、納米壓印和微流體領(lǐng)域的納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇。

請注意: II-VI Incorporated 已變更為 Coherent Corp.

技術(shù)數(shù)據(jù)

Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

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