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組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
納米級紋理凹槽表面
可變凹槽周期和凹槽深度
納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇
型號
產(chǎn)品編碼 | Period (nm) | 尺寸 (mm) |
16-855 | 855 ±42.75 | 12.50 x 12.50 |
16-856 | 855 ±42.75 | 25.00 x 25.00 |
16-857 | 139 ±6.95 | 12.50 x 12.50 |
16-858 | 139 ±6.95 | 25.00 x 25.00 |
詳細(xì)資料
Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章由在單晶硅基板上形成圖案的納米級紋理表面組成。通過反應(yīng)離子蝕刻,具有梯形橫截面的線性凹槽被蝕刻到基板表面,類似于傳統(tǒng)的光柵。蝕刻工藝可為這些凹槽提供不同的周期和深度規(guī)格,以及更復(fù)雜的圖案,例如晶格。II-VI LightSmyth™ 納米圖案硅印章是光學(xué)和光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、納米壓印和微流體領(lǐng)域的納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇。
請注意: II-VI Incorporated 已變更為 Coherent Corp.
技術(shù)數(shù)據(jù)