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線性微透鏡陣列

簡要描述:線性微透鏡陣列
熔融石英和硅基底
1x4 和 1x8 透鏡陣列配置
是光纖耦合和準(zhǔn)直的理想選擇
通用規(guī)格
透鏡剖面:
Spherical
注意 :
Linear arrays are centered on the part and surrounded by inactive lenses.

基礎(chǔ)信息

產(chǎn)品型號(hào)

廠商性質(zhì)

經(jīng)銷商

更新時(shí)間

2024-11-27

瀏覽次數(shù)

711
詳細(xì)介紹
品牌Edmund Optics

線性微透鏡陣列產(chǎn)品規(guī)格:

產(chǎn)品編碼Dia. (mm)基底涂層
21-1720.18 (of each lens)Fused Silica (Corning 7980)BBAR (1260-1675nm), Lens Side 
21-1730.18 (of each lens)Fused Silica (Corning 7980)BBAR (1260-1675nm), Lens Side 
21-1740.53 (of each lens)Fused Silica (Corning 7980)BBAR (1250-1620nm) 
21-1750.53 (of each lens)Fused Silica (Corning 7980)BBAR (1250-1620nm) 
21-1760.23 (of each lens)Silicon BBAR (1250-1620nm) 
21-1770.23 (of each lens)Silicon BBAR (1250-1620nm) 
21-1780.69 (of each lens)Silicon BBAR (1250-1620nm) 
21-1790.69 (of each lens)Silicon BBAR (1250-1620nm) 
21-1800.69 (of each lens)Silicon BBAR (1250-1620nm) 
21-1810.69 (of each lens)Silicon BBAR (1250-1620nm) 
21-1820.53 (of each lens)Silicon BBAR (1250-1620nm) 
21-1830.53 (of each lens)Silicon BBAR (1250-1620nm) 

線性微透鏡陣列采用熔融石英和硅材料基底,由4個(gè)或8個(gè)透鏡組成。硅材料折射率高,可實(shí)現(xiàn)短焦距、高數(shù)值孔徑透鏡陣列設(shè)計(jì),而熔融石英具有良好的熱穩(wěn)定性和可見光傳輸,便于對準(zhǔn)。用于在光纖到光纖或激光到光纖應(yīng)用中準(zhǔn)直和耦合光纖陣列,例如與半導(dǎo)體激光二極管一起使用。 這些透鏡為近紅外(NIR)設(shè)計(jì)了增透鍍膜,用于1310和1550nm,是近紅外激光器或電信設(shè)備的理想選擇。

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